재료의 조성 측정방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS)

재료의 조성 측정방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS)

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설명 : 재료의 조성 측정방법(XRD, TGA, DTA, FTIR, AES, EDS, XRF, ICP-MS, AAS, XPS) 여러가지 측정 방법에 대한 원리, 실험방법, 적용범위 재료의 조성 측정방법

재료의 조성 측정방법 1. XRD (X-ray Diffraction) (1)X-ray 기본원리 1. X-ray란? 2. X-ray의 발생 3. 분석에 이용하는 X-ray는? (2)Bragg’s Law 1. X-선 회절의 조건은? 2. Direction of Diffracted Beam (3)XRD 시스템 1. XRD 구성 1) X-ray 발생장치(X-ray Generator) 2). Goniometer 3) 계수기록장치(Electronic Circuit Panel) 4)Filter (4)XRD 실험방법 1. 분말X선회절법에 의한 동정법의 특징 2. X선에 의한 동정법의 한계 3. ICDD card 4. 색인서(Index book) 2. TGA (ThermoGravimetric Analysis) (1) 장치 구성 (2) 전자저울 종류 (3) TG의 가중기법 1. TG 곡선의 의미 2. TG 미분곡선 3. 미분곡선을 이용하는 이점 4. 전형적인 TG-curve (4) 분석방법 1. 조성의 분석 2. 열안정성 3. 분해반응속도 항수의 계산 4. 응용예 3. DTA (Differential Temperature Analyzer) (1) 장치 구성 (2) 결과 분석 (3) DTA peak 해석 (4) 시차온도곡선의 이해 (5) DTA의 특징 4. FTIR (Fourier transform infrared spectroscopy) (1) 기본원리 (2) FTIR의 특성 (3) FTIR의 구성 (4) FTIR에서의 Sampling 기법 5. AES(Auger Electron Spectroscopy) (1) 기본원리 (2) AES/SAM의 구조 (3) AES분석의 종류 (4) 충전효과(charging effect) (5) 주요 적용 범위 (6) 시료 준비 (7) 장점과 단점 6. EDS(Energy Dispersive X-ray Spectroscopy) (1) EDS 개요 (2) EDS를 이용한 정성분석 (3) EDS를 이용한 원소의 정량분석 7. XRF (X-Ray Flourescence Spectrometry) (1) X-선 형광이란 (2) XRF의 이용 (3) XRF의 종류 (4) 측정 방법 8. ICP-MS (Inductively Coupled Plasma) (1) ICP-MS란? (2) 구성장치 (3) 기존 장비와의 비교 9. AAS (atomic absorption spectroscopy) (1) AAS원리 (2) AAS의 구성 (3) 감도 및 검출 한계 (4) 적용범위 (5) 분석방법 10. XPS (X-ray Photoelectron Spectroscopy) (1) 기본원리 (2) ESCA 장치의 주요 구조 (3) 광전자 스펙트럼 (Photoelectron spectrum) (4) 화학적 이동 (Chemical shift) (5) 정량 분석 (Quantitative analysis) Reference

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